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공정장비

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Wafer level large-size molybdenum disulfide preparation furnace
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CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2
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Two-dimensional molybdenum sulfide growth equipment
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Two Channel Desktop Anti-Corrosion Gas Mixer with Float Flow Control CY-2F
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CY-2F
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Three-zone rotary tube furnace with continuous powder feeding & receiving system CY-O1200-100IIIT-R
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CY-O1200-100IIIT-R
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Three temperature zone PECVD graphene preparation
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Three Channel Compact Anti-Corrosion Gas Mixer with Float Flow Control CY-3F
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CY-3F
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Small double furnaces sliding tube furnace CY-O1200-50SDM
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CY-O1200-50SDM
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Sliding 1200 degree Tube Furnace with three gas mixer,vacuum pump for CNT Preparation
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CY-T1200-80IC
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Single heating zone rotary PECVD graphene preparation tube furnace
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Single heating zone rotary graphene preparation PECVD furnace
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CY-O1200-100IT
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Roll to roll PECVD graphene preparation equipment
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CY-OTF-1200X-III-PE300-RR
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Plasma Enhanced CVD system CY-PECVD-T01
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CY-PECVD-T01
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Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) system
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PE-HPCVD (Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition) tube furnace
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PECVD tube furnace with roll to roll system
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PECVD system for deposition of thick SiOx Ge-SiOx films
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PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition technology
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PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition coating equipment
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CY-PECVD-450
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PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
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Mini CVD tube furnace for preparing graphene
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Laboratory High Pressure &Temperature Tube furnace with Three Gas way mixer-CY-FH-S150
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CY-FH-S150
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Laboratory Flexible Metal Foil Electrode Preparation 1200 Celcius SingleMulti Heating Zone Double Tube Slide CVD System
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CY-O1200-100IT-S3ZD
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Laboratory CVD Furnace with water cooling flange and two gas way mixer CY-O1200-50IT-2Z10V
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CY-O1200-50IT-2Z10V
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Laboratory 1200°C CVD Tube Furnace with 4 Channel MFC Gas Mixer and Vacuum Pump CY-O1200-60IT-4Z10V
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CY-O1200-60IT-4Z10V
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Laboraotry mini pecvd furnace with compact tube furnace,rf generator and gas mixer-CY-O1200-50IS-PECVD
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CY-O1200-50IS-PECVD
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Hot cathode direct current plasma chemical vapor deposition equipment (DCCVD)
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High vacuum mini CVD tube furnace
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Dual temperature zone CVD chemical vapor deposition system
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CVD vapor deposition system for including metal films
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Compact CVD Tube Furnace with 2OD Quartz tube furnace and 3 gas mixer CY-O1200-50IS-3Z10V
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CY-O1200-50IS-3Z10V
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Compact CVD system with 1200°C tube furnace 3 gas way float flow controller-CY-O1200-50IC-3F
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CY-O1200-50IC-3F
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Atomic Layer Deposition (ALD) system
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Anti-Corrosion Three Channel Gas Mixing Control(MFC) Station for CVD System CY-3Z
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CY-3Z
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1700℃ hydrogen reduction CVD system with 2-channel float flowmeter to supply gas CY-T1700-100IC-2F-HP
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1500℃ single heating zone low vacuum CVD system with 3-channel mass flowmeter CY-O1500-60IT-3Z-LV
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CY-O1500-60IT-3Z-LV
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1500℃ single heating zone low vacuum CVD system with 3-channel float flowmeter to supply gas CY-O1500-60IT-3F-LV
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CY-O1500-60IT-3F-LV
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1500℃ single heating zone high vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY-O1500-60IT-3Z-HV
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CY-O1500-60IT-3Z-HV
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1500℃ single heating zone high vacuum CVD system with 3-channel float flow meter to supply gas CY-O1500-60IT-3F-HV
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CY-O1500-60IT-3F-HV
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1200℃ Two-zone Rotary PECVD tube furnace with three-channel MFC
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1200℃ two heating zone low vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY- O1200-50IIT-3Z-LV
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CY- O1200-50IIT-3Z-LV
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1200℃ two heating zone low vacuum CVD system with 3-channel float flow meter to supply gas CY-O1200-50IIT-3F-LV
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1200℃ two heating zone high vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY-O1200-50IIT-3Z-HV
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1200℃ two heating zone high vacuum CVD system with 3-channel float flow meter to supply gas CY-O1200-50IIT-3F-HV
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1200℃ three heating zone low vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY- O1200-50IIIT-3Z-LV
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1200℃ three heating zone low vacuum CVD system with 3-channel float flow meter to supply gas CY-O1200-50IIIT-3F-LV
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1200℃ three heating zone high vacuum CVD system with 3-channel float flowmeter to supply gas CY-O1200-50IIIT-3F-HV
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1200℃ single heating zone low vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY-O1200-50IT-3Z-LV
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1200℃ single heating zone high vacuum CVD system with 3-channel mass flow meter CY-O1200-50IT-3Z-HV
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1200℃ single heating zone high vacuum CVD system with 3-channel float flowmeter to supply gas CY-O1200-50IT-3F-HV
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1200℃ high-vacuum rapid annealing furnace
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